东方晶源DR-SEM r655新品亮相，国产电子束检测设备再上新台阶！

　　在电子束检测技术的广阔天地里，东方晶源以其不懈的努力与卓越的创新力，成为了国产替代浪潮中的一颗璀璨明星。多年来，该企业深耕细作，不仅成功打破了电子束缺陷检测设备EBI与关键尺寸量测设备CD-SEM领域的国外垄断，更赢得了市场的广泛认可与赞誉。

　　时间的指针拨回到2023年初，东方晶源携DR-SEM r600惊艳亮相，这款搭载了3通道电子成像技术与新型设备平台的力作，在客户端顺利完成量产验证，为后续产品的迭代升级奠定了坚实的基础。经过两年的潜心研发，如今，东方晶源再次以全新姿态站在行业前沿，推出了最新一代的DR-SEM r655。

　　r655不仅在硬件上实现了质的飞跃，更在技术上取得了重大突破。全新的高性能电子枪与光学检测模组，搭配升级版传片系统和算法系统，使得r655在检测精度与效率上均达到了国际先进水平。特别是其5通道探测器设计，覆盖了更广泛的检测需求，全方位缺陷表征能力显著提升，为工程师提供了更为精准、立体的缺陷判定依据。

　　在材料衬度解析方面，r655同样表现不俗。顶端探测器增强了背散射电子信号的接收能力，能够精准捕捉材料衬度差异，满足先进制程对多种应用场景的苛刻要求。同时，配合高加速电场设计，r655在高深宽比结构的检测上同样游刃有余，性能与国际成熟机型不相上下。

　　光学检测的升级更是r655的一大亮点。针对无图形晶圆缺陷复检需求，r655通过光路优化与深紫外光源系统的两项核心改进，实现了光学检测灵敏度的极限突破。调整后的缺陷接收光路大大缩小了与目标缺陷尺寸的检测差距，而自研光路和定制开发的国产深紫外激光源则使得光学检测灵敏度提升至20nm，为未来的性能进一步优化预留了充足空间。

　　在效能方面，r655同样不负众望。通过平台级升级，r655全面优化了晶圆吞吐效率。传输与运动控制的优化大大缩短了晶圆传输时间，配合新一代电子光学系统，缺陷抓取速度接近国际一线设备水平。同时，模块化扩展设计使得r655具备灵活的可拓展性，能够支持多个选配模组和升级需求，完美兼容先进制程的多样化检测需求，确保了设备的长期技术竞争力。

　　东方晶源始终秉持着“高性能优化（HPO）”的核心理念，前瞻性地整合了DR-SEM与GDS-Design系统，通过智能算法的应用，进一步提升了缺陷抓取率，推动了检测流程的自动化进程。这一系列举措不仅彰显了东方晶源在自主创新方面的坚定决心与强大实力，更为我国半导体产业链的自主可控提供了坚实有力的支撑。